Wir, die 4^th Condition haben 2 selbst entwickelte Verfahren. Diese Verfahren sind ähnlich wie CVD und PVD Verfahren, jedoch mit deutlichen Vorzügen.

Unser Hochenthalpie Plasmabeschichten (HE-MVD) ist vom Ergebnis eine Mischung aus Plasmaspritzen mit den Vorzügen vom PVD Verfahren es ist ca. 20.000 x schneller (Vergleichsmessung auf einer Fläche von 100x100mm) als PVD und es sind Innenbeschichtungen möglich. Ausserdem können wir Materialien wie Wolfram oder Tantal in unlegierter Form aufbringen.

Unsere Inductive Coupled Plasma Vapour Deposition (ICPVD) ist vergleichbar mit einem CVD Prozess, aber wir haben Prozesstemperaturen von nur 50Grad Celsius und können damit auch z.B. temperatursensible Substrate beschichten. Auch hier haben wir extrem schnelle Prozesszeiten und können Schichten in Sekunden aufbringen.

Durch die geringen Kernprozesszeiten lassen sich die Verfahren sehr gut skalieren.

Die 4^th Condition-Technologien ermöglichen es, sämtliche Bauformen mit dünnen Schutz oder Funktionsschichten zu versehen und setzen dabei neue Maßstäbe in den Punkten Langlebigkeit, Hydrophobie, Flamm- und UV-Schutz.